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orc半導體用露光裝置PPS-8200/8300的用途和特長是什么

更新時間:2023-08-21      瀏覽次數(shù):414

用途:

支持多種應用程序


支持WL-CSP、IGBT、CIS等的光刻6/8/12英寸。

特長:

  1. 寬帶曝光(與配方聯(lián)動的自動切換ghi線gh線,i線)。

  2. 搭載可變NA功能(0.16和0.1的可變)。

  3. 最多8個字段的條形圖設計格式。

  4. 由抗蝕氣體和周邊環(huán)境化學保護的光學系統(tǒng)。

    規(guī)格:


    型式PPS-8200/8300
    ウェーハサイズ6/8/12インチ
    解像力2.0 µmL/S(2.0 µm レジスト厚)
    NA(開口數(shù))0.16、0.1可変
    縮小比1:1
    Fieldサイズ52mm × 33mm
    露光波長ghi-Line gh-line i-line(レシピ連動)
    レチクルサイズ6inch
    重ね合せ精度≦0.5 µm(|Ave|+3σ)
    裝置サイズ/重量(W)2,260×(D)3,460×(H)2,500mm / 5,500kg
    主要オプションバックサイドアライメントシステム
    ウェーハ周辺露光システム
    ウェーハ周辺非露光システム
    薄ウェーハ搬送システム
    GEM通信対応
    インライン対応


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